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产品&服务 Products & services
  • 集成电路 IC
    等离子刻蚀设备 Etcher
    物理气相沉积设备 PVD
    化学气相沉积设备 CVD
    氧化扩散设备 Oxide/Diff
    清洗设备 Cleaning Tool
    辅助设备 Facility
    气体测量控制 Gas Measuring Control
    原子层沉积设备ALD
  • 光伏电池 Photovoltaic
    化学气相沉积设备 CVD
    氧化扩散设备 Oxide/Diff
    清洗设备 Cleaning Tool
    移载传送设备 Indexer
    辅助设备 Facility
    气体测量控制 Gas Measuring Control
  • 先进封装 Advanced Packaging
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  • 科研设备 R&D Equipment
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  • 微机电系统 MEMS
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  • 真空镀膜 Vacuum Coating
    气体测量控制 Gas Measuring Control
  • 半导体照明 LED
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  • 分析仪器 Analysis Instrument
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  • 功率器件 Power Devices
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    化学气相沉积设备 CVD
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    气体测量控制 Gas Measuring Control
    原子层沉积设备ALD
  • 节能环保 Energy Saving
    辅助设备 Facility
    气体测量控制 Gas Measuring Control
  • 平板显示 FPD
    清洗设备 Cleaning Tool
    紫外固化设备 UV Cure
    移载传送设备 Indexer
    辅助设备 Facility
    气体测量控制 Gas Measuring Control
  • 光通信器件 Optical Information Devices
    等离子刻蚀设备 Etcher
    气体测量控制 Gas Measuring Control
  • 燃料电池 FC
    气体测量控制 Gas Measuring Control
  • 备品备件 Parts
    气体测量控制 Gas Measuring Control
    备品备件 Parts
  • 化合物半导体 Compound Semi
  • 客户服务 Services
    客户服务 Services
半导体照明 LED
  采用氮化镓基发光二极管作为光源的半导体照明技术,以其节能、高效、寿命长等优点被广泛应用于照明、大屏幕显示、指示灯、背光源等领域,其技术发展迅速、应用领域广泛、产业带动性强、节能潜力大,被公认为具有发展前景的高效照明产业。在LED领域,ICP刻蚀机自面市以来已经实现了两百台的销售突破,其中GaN刻蚀机新增市占率超过80%,成为行业标杆机型;自主开发的应用于LED制程的AlN缓冲层沉积设备,引领LED领域技术发展,凭借其优越的性能,成为客户信赖的技术创新产品。
辅助设备 Facility
  • Bcube系列 药液供给/回收系统
    Bcube Series Chemical Delivery/Reclaim System

    药液供给/回收系统为各研究所、高等院校等提供灵活的客户化定制机台,满足客户需求。

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  • AE CN1000 氮气存储柜
    AE CN1000 N2 storage cabinet

    氮气存储柜是将高纯氮气充入柜内形成微正压,提供干燥无氧的洁净存储空间

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  • AE CG1000气路柜
    AE CG1000 Gas storage cabinet

    通过集中存储各工艺气体钢瓶,来控制管理各工艺气体气路系统,为工艺设备提供配套

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  • ME8000 金属腔室等离子刻蚀/清洗设备
    ME8000 SS Plasma Etching System\ Plasma Clean System

    用于对硅片或其他工件表面进行刻蚀或清洗工艺的需求

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