真空装备 Vacuum Tech

CLP1000R6-2/ZM

重稀土PVD连续镀膜设备

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CLP1000R6-2/ZM 重稀土PVD连续镀膜设备
CLP1000R6-2/ZM Heavy rare earth PVD continuous coating equipment
设备采用真空镀膜技术,针对重稀土晶界扩散工艺中重稀土成膜工序进行专门设计,该设备具有常规真空镀膜技术的沉积膜层均匀、致密、附着力强等特点,还具有高稼动率、大产能等优点。
设备特点
  • 采用卧式设计,整个操作过程自动运行
  • 采用托盘支撑的工件摆放方式,可以节省装夹时间和节约人工,降低劳动强度和运行成本
  • 选用新型专业定制的高利用率旋转阴极,靶材溅出率可达到85%~90%
  • 旋转靶材拥有更长的使用时间,大大延长了设备的换靶周期/减少破空周期
  • 良好的靶筒冷却系统使旋转阴极可以承受更高的功率密度
技术指标
  • 镀层厚度均匀性
    ≤±5%
  • 设备压升率(镀膜区)
    ≤0.6Pa/h(空载、室温)
  • 冷却效率
    20min内出料,工件表面温度≤80℃
  • 靶材溅出率
    靶材为10mm厚时,靶材溅出率≥82%
  • 阴极数量
    4套高利用率旋转阴极
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